Doorbraak ASML: krachtiger EUV-lichtbron verhoogt chipproductie fors

In dit artikel:

ASML heeft in zijn vestiging in San Diego een methode ontwikkeld om de lichtbron van zijn meest geavanceerde EUV-chipmachines aanzienlijk krachtiger te maken: van circa 600 watt naar 1000 watt. Ingenieurs bereikten dat door het aantal gesmolten tindruppels te verdubbelen en in plaats van één twee laserpulsen te gebruiken, waardoor meer plasma en dus meer EUV‑licht ontstaat. Hierdoor kan de productiviteit van EUV‑machines sterk omhoog: ASML schat dat de verwerkingssnelheid kan stijgen van ongeveer 220 naar zo’n 330 wafers per uur tegen circa 2030, wat neerkomt op tot 50% meer chips tegen het einde van dit decennium. De doorbraak helpt ASML zijn technologische voorsprong te behouden ten opzichte van zwaar gesubsidieerde concurrenten in de VS en China; onderzoekers noemen 1000 watt opmerkelijk en ASML ziet op termijn zelfs mogelijkheden richting 1500–2000 watt.