Imec maakt qubit met ASML-lithografie

In dit artikel:

Imec in Leuven meldt een technische doorbraak: voor het eerst is een qubit geproduceerd met behulp van High NA EUV-lithografie, de uiterst precieze chipprinttechniek van ASML. De stap gebeurde in samenwerking met ASML en maakte gebruik van een van hun meest geavanceerde machines die voor onderzoek in Leuven staat. Imec ziet dit als een belangrijke mijlpaal op weg naar industriële opschaling van betrouwbaardere qubits.

Het gaat om silicium‑quantumdot spin‑qubits, een platform dat veelbelovend is omdat het grotendeels compatibel is met bestaande CMOS‑productieprocessen. Door electronen in nanostructuren te vangen en hun spin als informatiedrager te gebruiken, is heel kleine afstand tussen poorten noodzakelijk om ruis te beperken. Dankzij High NA EUV kon Imec zeer uniforme, foutarme structuren maken — waaronder een functionerend qubit‑netwerk met openingen van ongeveer 6 nanometer — waardoor die tussenruimtes sterk verkleind kunnen worden.

Imec‑projectleider Sofie Beyne zegt dat het centrum nu de stap kan maken van laboexperimenten naar grootschalige, produceerbare kwantumsystemen. Kristiaan De Greve noemt de uitkomst “een belangrijke technische prestatie”: High NA EUV blijkt qubits nauwkeuriger te kunnen maken, een randvoorwaarde voor hun betrouwbaarheid. Voor praktische quantumcomputers is nog een enorme opschaling nodig — potentieel miljoenen onderling verbonden qubits — maar deze ontwikkeling vermindert een belangrijke productie‑barrière.